【普樂斯】小型實驗型等離子清洗機設(shè)備 PM-20LN
品牌:普樂斯
名稱:小型實驗型等離子清洗機設(shè)備
型號: PM-20LN
用途:用于不同材料的表面處理,適合于研究所、大學(xué)院校、研發(fā)中心使用
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產(chǎn)品特點
觸摸屏操作界面
數(shù)字及圖標(biāo)多重工藝參數(shù)實時顯示
整體小巧便于移動
自動/手動操作模式切換
可存儲多套工藝配方
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產(chǎn)品參數(shù)
| 型號 | PM-20LN 桌面型等離子清洗機設(shè)備 |
| 主機尺寸 | W600×D500×H700 mm |
| 主機重量 | 80Kg |
| 額定功率 | AC220V 約2.5KW |
| 設(shè)備顏色 | 珍珠白 |
| 真空腔體尺寸 | W280×D280×H200 mm |
| 觀察窗 | L200*H160mm |
| 操作系統(tǒng) | 中文系統(tǒng) 觸摸屏 |
| 真空泵系統(tǒng) | 油泵 |
| 電極結(jié)構(gòu) | 定制型水平電極 |
| 工作真空度 | 20-60pa |
| 抽真空能力 | 空載90秒以內(nèi)抽到30pa以內(nèi) |
| 破空時間 | 20秒 |
| 氣體控制系統(tǒng) | 電磁閥控制 |
| 等離子發(fā)生器 | 0-1000W高頻 |
注:以上參數(shù)僅供參考,本公司可能對相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進(jìn)行調(diào)整,如有變動,恕不再另行通知。若有不明處,歡迎來電詢問。
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工作原理
在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,等離子清洗設(shè)備利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,然后與有機污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。如圖所示:


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應(yīng)用領(lǐng)域
用于不同材料的表面處理
適合于研究所、大學(xué)院校、研發(fā)中心使用
適合于研究所、大學(xué)院校、研發(fā)中心使用
快速反應(yīng),專業(yè)配合,精心打造服務(wù)生態(tài)鏈
1年質(zhì)保,終身維護(hù),提供配套服務(wù)
承諾到達(dá)現(xiàn)場的時限:昆山4小時,蘇州8小時,江浙滬24小時,其他區(qū)域48小時
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榮譽資質(zhì)
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