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普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察,3納米已漸行漸近

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2020-01-16 09:23【
文章導(dǎo)讀:普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察,大家都知道,制程越小,晶體管柵極越窄,功耗越低,而集成難度和研發(fā)成本也將加倍提升。3nm是一個將近物理ji限的節(jié)點,這需要產(chǎn)業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)的努力。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察,身為摩爾定律忠實的跟隨者與倡導(dǎo)者,臺積電、三星已經(jīng)挑起3nm的戰(zhàn)局。據(jù)了解,三星已經(jīng)完成了第1個3nm制程的開發(fā),準(zhǔn)備2022年規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片,先前臺積電也準(zhǔn)備2022年量產(chǎn)3nm。如果沒有意外,3nm芯片將在后年來臨,對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈提出新的挑戰(zhàn)。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察,3納米已漸行漸近
有報道稱,三星已成功研發(fā)出第1個基于GAAFET的3nm制程,預(yù)估2022年進(jìn)入量產(chǎn)。與7nm工藝相比,3nm工藝可將核心面積減少45%,功耗降低50%,性能提升35%。按照三星的研發(fā)路線圖,在6nmLPP之后,還有5nmLPE、4nmLPE兩個節(jié)點,隨后進(jìn)入3nm節(jié)點,分為GAE(GAAEarly)以及GAP(GAAPlus)兩代。去年5月,三星的3nmGAE設(shè)計套件0.1版本已經(jīng)就緒,以協(xié)助客戶盡快啟動3nm設(shè)計。三星預(yù)估該技術(shù)將在下一代手機、網(wǎng)絡(luò)、自動駕駛、人工智能及物聯(lián)網(wǎng)等設(shè)備中應(yīng)用。
 
以2022年量產(chǎn)為目標(biāo)的臺積電,也在按計劃推進(jìn)3nm研發(fā)。臺積電ceoCCWei曾表示,臺積電在3nm節(jié)點技術(shù)開發(fā)進(jìn)展順利,已經(jīng)與早期客戶進(jìn)行接觸。臺積電投資6000億新臺幣的3nm寶山廠也于去年通過了用地申請,預(yù)估2020年動工,2022年量產(chǎn)。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察,3納米已漸行漸近
臺積電在7nm節(jié)點取得了jue對優(yōu)勢,在5nm也進(jìn)展順利,獲得了蘋果A14等訂單。但三星并沒有放松追逐的腳步,準(zhǔn)備到2030年前在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)投資1160億美元,以增強在非內(nèi)存芯片市場的實力。臺積電創(chuàng)始人張忠謀此前對媒體表示,臺積電與三星的戰(zhàn)爭都還沒結(jié)束,臺積電僅僅 贏得了一兩場戰(zhàn)役,可整個戰(zhàn)爭都還沒贏,目前臺積電暫時占優(yōu)。

本文來源:中國電子報 作者:張心怡 
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