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等離子清洗機(jī)大氣射流等離子體的發(fā)展和影響射流長度的條件

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2019-10-15 09:57【
文章導(dǎo)讀:大氣射流等離子體裝置有哪些發(fā)展階段?影響等離子清洗機(jī)射流長度的條件有什么?接下來普樂斯就為大家普及相關(guān)的內(nèi)容:
當(dāng)前,微電子工業(yè)中用到的等離子清洗機(jī)低溫等離子體工藝仍是在真空條件下來完成的。真空條件為大面積均勻性提供了保證,但是,真空條件所需要的投入在整個(gè)等離子體工藝線的投資方面占了很大的比例。因此,為了擺脫對(duì)真空環(huán)境的依賴,在大氣壓條件下獲得均勻放電等離子體的問題在20世紀(jì)80~90年代被提到了議事日程,并在全球范圍內(nèi)形成了巨大的研究熱潮,為大氣射流等離子體的發(fā)展提供了良好基礎(chǔ)。
1 大氣壓非熱力平衡態(tài)冷等離子體射流(n-TECAPPJ)裝置的前身
20世紀(jì)90年代初,Koinuma等開發(fā)出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求,在直徑2mm的范圍內(nèi),采用CF(1%)/He作為放電氣體和70W的射頻功率,在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認(rèn)為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
由于其消耗的平均功率非常小,所產(chǎn)生的等離子體射流對(duì)環(huán)境以及被處理材料表面幾乎沒有什么熱效應(yīng),因此可以將其稱為“冷等離子體射流”。射頻與高頻放電等離子體的產(chǎn)生機(jī)理是有所不同的;從應(yīng)用的角度來看,高頻電源更便宜,相關(guān)裝置的設(shè)計(jì)與制造也更間單,因此更實(shí)用,從近十年的文獻(xiàn)分析來看,這類裝置的結(jié)構(gòu)大多采用了在惰性氣體(或以惰性氣體為主摻入一些活性氣體)氣流通道上形成DBD。

2 實(shí)驗(yàn)測量得出影響射流長度的條件
等離子體子弓單的速度是人們比較關(guān)心的一個(gè)問題,雖然Teschke等早在2005年就已經(jīng)指出,等離子體子
弓單是一種電驅(qū)動(dòng)效應(yīng),與氣流無關(guān),因?yàn)樵诖蠖鄶?shù)實(shí)驗(yàn)條件下氣體流速僅約10m/s,比上述子弓單的速度小3~4個(gè)數(shù)量級(jí),但是實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)氣體流速對(duì)等離子體子弓單所形成的射流在空氣中的長度有決定性的影響。
 
孫姣等zui早報(bào)道了氣體流速與射流長度的關(guān)系。通過采用一種焓探針來測量流出石英管的氣體的軸向流速,他們發(fā)現(xiàn)無論是氦氣還是氬氣產(chǎn)生的等離子體射流的長度,在氣體處于層流狀態(tài)下時(shí),幾乎與氣體流速成線性關(guān)系。 進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)研究表明,情況比該結(jié)論更復(fù)雜,除了氣體流量或流速外,驅(qū)動(dòng)電源的參數(shù)如電壓、頻率、脈沖寬度等在一定的條件下都會(huì)影響射流的長度。

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    3)設(shè)備維護(hù)簡單,只需進(jìn)行簡單的清洗和更換
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